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磁控濺射鍍膜儀
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  • 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合... 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配功率從500W-1000W不等的...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(射... 單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配500W-1...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(直... 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500...
  • 小型單靶磁控濺射鍍膜儀 小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可...
  • 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個(gè)靶)、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真...
  • 可程控磁控濺射鍍膜儀 可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu),主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真...
  • 高真空磁控濺射鍍膜儀 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等...
  • 單室磁控濺射鍍膜儀 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組...
  • CY-in-line磁... CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝...
  • 雙靶高真空磁控等離子濺... 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng),具有雙靶2"目標(biāo)源,例如,一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜,另一個(gè)射頻源用于...
  • 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng),設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層,主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
  • 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺... 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng),涂有非金屬,主要是氧化物薄膜。非導(dǎo)電薄膜等離...

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