- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
單靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)型） |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-PLZ180-I-DC-Q |
|
|
樣品臺(tái) |
尺寸 |
60mm |
|
到靶面距離 |
20~35mm高度可調(diào) |
|
|
等離子濺射靶 |
數(shù)量 |
2英寸x1 |
|
冷卻方式 |
自然冷卻 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 100mm |
|
觀察窗口 |
全向可視 |
|
|
腔體材料 |
高純石英 |
|
|
開啟方式 |
頂蓋拆卸式 |
|
|
上下蓋材質(zhì) |
304不銹鋼 |
|
|
抽氣接口 |
KF25 |
|
|
進(jìn)氣接口 |
1/4英寸卡套接頭 |
|
|
電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源x1 |
|
輸出功率 |
*大150W |
|
|
濺射電源 |
3000V |
|
|
*大濺射電流 |
50mA |
|
|
真空系統(tǒng) |
真空泵類型 |
雙極旋片真空泵 |
|
抽氣接口 |
KF25 |
|
|
排氣接口 |
KF16 |
|
|
抽氣速率 |
1.1L/s（4m3/h） |
|
|
極限真空度 |
≥1Pa |
|
|
真空測(cè)量 |
電阻真空規(guī) |
|
|
其他 |
供電電源 |
AC 220V 50Hz |
|
整機(jī)功率 |
1.5kW |
|
|
整機(jī)尺寸 |
500mm X 320mm X470mm |
|
|
整機(jī)重量 |
30kg |
|
